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氫氧化鎂阻燃劑高速分散機

氫氧化鎂阻燃劑高速分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備,先研磨后分散機,因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中,會形成二級團聚體,軟團聚。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-17
  • 訪  問  量:1205
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產(chǎn)品詳情

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隨著高分子材料工業(yè)的發(fā)展,塑料、橡膠、纖維等合成高分子材料越來越廣泛的用于建筑、化工、軍事及交通等領(lǐng)域。但大部分高分子材料均易于燃燒,在很多應(yīng)用領(lǐng)域中,需要添加阻燃劑以降低其燃燒性及燃燒速度,從而達到預防火災(zāi)、減緩火勢蔓延的密度。近年來,高分子阻燃技術(shù)受到性的關(guān)注阻燃劑以及成為*于增塑劑的第二大高分子材料用助劑。

作為重要的無極阻燃劑產(chǎn)品,氫氧化鋁和氫氧化鎂由于環(huán)境友好、阻燃性強而倍受人們青睞。與氫氧化鋁相比,氫氧化鎂具有熱穩(wěn)定性高、成炭效率高和降酸能力強等特點??梢詮V泛的應(yīng)用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不飽和樹脂等高分子材料的阻燃和消煙。


然而,要獲得超細的氫氧化鎂助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設(shè)備,傳統(tǒng)的分散設(shè)備,一方面無法將氫氧化鎂漿料進一步細化,另一方分散效果不佳。上海SGN結(jié)合多家阻燃劑廠家,可知,采用SGNGMSD2000系列研磨分散機對氫氧化鎂漿料進行進一步的研磨和分散,粒徑更小,分散更均勻。

 

氫氧化鎂阻燃劑分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備,先研磨后分散機,因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中,會形成二級團聚體,軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。SGN研磨分散機二級工作組,轉(zhuǎn)速高達14000rpm,剪切力強,分散更*。

GMSD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

GMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。



D一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。      

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

  
的特點:

① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

GMSD2000 三級乳化機參數(shù)表

SGN高剪切乳化機選型表:

 

標準流量(H2O)

輸出轉(zhuǎn)速

標準線速度

馬達功率

進出口尺寸

型號

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMSD 2000/4

400

18000

51

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1500

13500

51

7.5

DN40 /DN 32

GMSD 2000/10

4000

9257

51

22

DN50 / DN50

GMSD 2000/20

10000

3664

51

37

DN80 /DN 65

GMSD 2000/30

60000

1825

51

55

DN150 /DN 125

 

 

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