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您的位置:首頁  -  產(chǎn)品中心  -  膠體磨  -  德國膠體磨  -  GMD2000阿莫西林混懸液進口膠體磨

阿莫西林混懸液進口膠體磨

阿莫西林混懸液進口膠體磨是是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-17
  • 訪  問  量:1516
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產(chǎn)品詳情

阿莫西林混懸液進口膠體磨,阿莫西林混懸液膠體磨,阿莫西林膠體磨,混懸液膠體磨,獸藥混懸液膠體磨,SGN 膠體磨  

是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

混懸液型藥劑一般系指不溶性藥物顆粒分散在液體分散媒內(nèi)所形成的不均勻分散系的液體藥劑。對混懸劑的要求是:混懸的微粒應(yīng)細微均勻、下沉緩慢、其速度不影響劑量的正確量?。幌鲁梁蟮奈⒘2唤Y(jié)塊,稍加振搖即能均勻分散;在長期貯存中粒子大小保持不變;不太粘稠,易傾倒;外形美觀,味道可口并具有一定的防腐能力;外用混懸劑應(yīng)易于涂布,不易流散,能快速干燥,干后能形成不易擦掉的保護膜。混懸劑的微粒一般在1μm以上,混懸劑在醫(yī)療上應(yīng)用較廣,在口服、外用、注射、滴眼、氣霧以及長效等劑型中都有應(yīng)用。

阿莫西林混懸液 適應(yīng)癥為阿莫西林適用于敏感菌(不產(chǎn)β內(nèi)酰胺酶菌株)所致的下列感染:1.溶血鏈球菌、肺炎鏈球菌、葡萄球菌或流感嗜血桿菌所致中耳炎、鼻竇炎、咽炎、扁桃體炎等上呼吸道感染。2.大腸埃希菌、奇異變形桿菌或糞腸球菌所致的泌尿生zhi道感染。3.溶血鏈球菌、葡萄球菌或大腸埃希菌所致的皮膚軟組織感染。4.溶血鏈球菌、肺炎鏈球菌、葡萄球菌或流感嗜血桿菌所致急性支氣管炎、肺炎等下呼吸道感染。5.急性單純性淋病。6.本品尚可用于治療傷寒、傷寒帶菌者及鉤端螺旋體?。话⒛髁忠嗫膳c克拉霉素、蘭索拉唑三聯(lián)用藥去除胃、十二指腸幽門螺桿菌,降低消化道潰瘍復(fù)發(fā)率。本品為無糖(蔗糖、葡萄糖)配方,特別適合兒童。

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4  物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

 

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 SGN納米膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較:

一、轉(zhuǎn)速和剪切速率:SGN納米膠體磨,可選擇德國機械密封,轉(zhuǎn)速可以達到18000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內(nèi)膠體磨,可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

 

二、膠體磨頭和間距:SGN納米膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實現(xiàn)多種功能,如三級乳化模塊,高速模塊,GM膠體模塊,GMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào),可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差

三、機械密封:SGN納米膠體磨,雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時不停運轉(zhuǎn)國內(nèi)膠體磨,單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀

定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出ZUI終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級 
  電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、 
  電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz 
  電機選配件:PTC 熱保護、降噪型 
  均質(zhì)機材質(zhì):SUS304、SUS316L、SUS316Ti 
  均質(zhì)機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車 
  均質(zhì)機表面處理:拋光、耐磨處理 
  進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍 
  乳化機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 
  分散均質(zhì)機高剪切分散均質(zhì)機,實驗室均質(zhì)機 
  應(yīng)用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農(nóng)藥(除草劑、殺蟲劑)。

GMD高剪切膠體磨選型表:

 

標準流量(H2O)

輸出轉(zhuǎn)速

標準線速度

馬達功率

進出口尺寸

型號

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD 2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

1,000

6000

23

7.5

DN40 /DN 32

GMD 2000/10

3,000

4200

23

22

DN50 / DN50

GMD 2000/20

8,000

2850

23

37

DN80 /DN 65

GMD 2000/30

20,000

1420

23

55

DN150 /DN 125

 公司有樣機可實驗!,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!SGN銷售會根據(jù)客戶具體需求做適當(dāng)?shù)脑O(shè)備選型,以及根據(jù)流量做型號相應(yīng)放大!

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